Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Варианты: 07, 12, 24

Цена: 300.00

  • ID работы: 894
  • Добавлена: 2013
  • Посл. изменения: 25-03-2025
  • Тип: .
  • Предмет: Электроника, Электротехника
  • Формат: docx
Выберите нужный вариант - отобразится его стоимость - нажмите В корзину:

Домашнее задание №1 Расчет логической схемы.

  1. Нарисовать в масштабе топологии и технологические сечения транзисторов и резисторов.
  2. Рассчитать spice-параметры моделей транзисторов схемы.
  3. Описать принцип работы схемы.
  4. Используя рассчитанные параметры моделей промоделировать схему в SPICE и построить:
    • передаточную характеристику схемы: UВЫХ(UВХ), определить по ней уровни логического нуля (U0) и единицы (U1), запас помехоустойчивости схемы;
    • зависимость потребляемого схемой тока от входного напряжения IПОТР(UВХ) и рассчитать средний потребляемый ток;
    • переходные характеристики схемы: UВЫХ(t) и UВХ(t), определить по ним времена задержек и фронтов переключения, максимальную рабочую частоту схемы (fmax);
    • рассчитать статическую и динамическую потребляемую мощность.
  5. Оформить отчет о домашнем задании (отчет должен обязательно содержать титульный лист с номером варианта, задание и исходные данные).

Для расчета spice-параметров рекомендуется использовать программу Mathcad. Для создания топологии транзистора и технологического разреза желательно использовать редактор векторной графики (например Corel Draw). Моделирование схемы проводить в программе LTSPICE.

 

Руководство по выполнению домашней работы №1.

Биполярный транзистор

Исходные данные для расчета биполярного транзистора:

Параметр Описание
x=1…3 Глубина залегания p-n перехода база-коллектор, мкм
x=0.5…2.5 Глубина залегания эмиттерного p-n перехода, мкм
=xjкxjэ Толщина активной базы, мкм
wэпи=5…10 Толщина эпитаксиального слоя, мкм
xjn=5…12 Толщина скрытого n+ слоя, мкм
NДЭ(0)=(2…10)1020 Концентрация донорной примеси в эмиттерной области: на

поверхности, см-3

NДЭ(x)=(1…10)1017 Концентрация донорной примеси в эмиттерной области: у

эмиттерного перехода, см-3

NАБ(x)=(1…5)1017 Концентрация акцепторной примеси в области базы: у

эмиттерного перехода, см-3

NАБ(x)=(5…10)1016 Концентрация акцепторной примеси в области базы: у

коллекторного перехода, см-3

NДК=(0.5…5)1016 Концентрация донорной примеси в эпитаксиальной пленке

коллектора, см-3

эпи=0.05…0.5 Удельное объемное сопротивление коллекторной области,

Омсм

RБА=(1…10)103 Поверхностное сопротивление активной области базы (под

эмиттером), Ом/□

RБП=100…300 Поверхностное сопротивление пассивной области базы (вне

эмиттера), Ом/□

L5 Диффузионная длина дырок в эмиттере, мкм
L5 Диффузионная длина электронов в базе, мкм
L5 Диффузионная длина дырок в коллекторе, мкм
D11 Коэффициент диффузии дырок в эмиттере, см2
D Коэффициент диффузии электронов в базе, см2
D14 Коэффициент диффузии дырок в коллекторе, см2
ni=1.51010 (Si) Концентрация носителей зарядов в собственном

полупроводнике, см-3

=12 (Si), =3.9 (SiO2), Относительная диэлектрическая проницаемость

полупроводника, диэлектрика

q=1.610-19 Заряд электрона, Кл
n≈1200…1400 (Si) Подвижность электронов в объеме базы, см2/(Вс)
η=2.5 Коэффициент, учитывающий градиент примеси в базе
T  0.025 Тепловой потенциал при комнатной температуре (Т=300 К), В
э=0.0005…0.001 Удельное объемное сопротивление эмиттерной области, Омсм

Расчет spice-параметров биполярного транзистора

Описание биполярного транзистора в SPICE.

Q1 <узел коллектора> <узел базы> <узел эмиттера> < название модели >

.model <название модели> npn[или pnp](<список параметров>).

Набор spice-параметров биполярного транзистора.

Параметр Описание Примечание
1 BF коэффициент усиления тока базы в

нормальном режиме

рассчитывается
2 BR коэффициент усиления тока базы в

инверсном режиме

рассчитывается
3 IS ток насыщения, А рассчитывается
4 RB сопротивление базы, Ом рассчитывается
5 RC сопротивление коллектора, Ом рассчитывается
6 TF время пролета базы, с рассчитывается
7 CJE емкость эмиттерного pn-перехода, Ф рассчитывается
8 CJC емкость коллекторного pn-перехода, Ф рассчитывается
9 NF коэффициент эмиссии эмиттерного

перехода

задан (1.1)
10 NR коэффициент эмиссии коллекторного

перехода

задан (1.4)

Коэффициент усиления тока базы в инверсном режиме (BR).

Все транзисторы проектируются исходя из минимального размера , за исключением многоэмиттерных, для которых следует добиваться минимума коэффициента передачи тока базы в инверсном режиме — BR (необходимо получить значение BR < 0.1) этот параметр рассчитывается по формуле:

B DnБ SЭ KX exp/ 2LA

R pK SБ / LpK DnБ SЭM KX cthKX wБ 1/ 2LA  DnБ MSЭ K cthK x jК 1/ 2L

D

X

X

A

где: M – число эмиттеров, SЭ=LЭdЭ, — площадь эмиттера, SБ=LБZБ, — общая площадь базы,

D    , K  (1/ 2L )2  (1/ L )2 , L w / ln NДЭ (xjЭ ) .

nБ n T X

A nБ A Б

N ДК

Остальные параметры рассчитываются по следующим формулам:

Ток насыщения (IS):

S qD

n

2

IS Э nБ i .

NДЭ (xjЭ )

Коэффициент усиления тока базы в нормальном режиме (BF):

2L2

BF (1 ) .

2

w

Б

Сопротивление базы (RB):

R R

dЭБ .

B БП

L

Э

Сопротивление коллектора (RC):

RC=RC1+RC2.

R  

wЭПИ

 1 Х

2 jn

Х jЭ

,

R  

wЭПИ

 1 Х

2 jn

Х jK

.

C1 ЭПИ

LKK

dKK

C 2 ЭПИ

Время пролета базы (TF):

2w2

TF Б .

DnБ (1  )

Емкости рассчитываются по формуле (CJE и CJC):

q0Si N

2VB

C S

, V   ln  (xj )(x j )  ; N=min(N (x ),N (x ));

p n

B T  2 

i

Д j А j

S L Z

  • 2xjК (L

4x2

  • Z ) 

— для коллекторного p-n – перехода,

Б Б

n

4

2x

Б Б 8

4x2

— для эмиттерного p-n – перехода,

S L d

  • (L
  • d ) 

Э Э

4 Э Э 8

Cp-n – ёмкость p-n перехода при нулевом смещении, S — общая площадь p-n – перехода, первое слагаемое – плоское дно, второе слагаемое – цилиндрические боковые части, третье слагаемое – сферические угловые части, значения концентраций NД,NА берутся вблизи p-n перехода, VB — потенциальный барьер p-n – перехода при нулевом смещении.

Резисторы

Диффузионные резисторы

Диффузионные резисторы – формируются в полупроводниковой подложке с помощью методов диффузии или ионной имплантации.

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Рис. 1. Диффузионный резистор

Чтобы использовать диффузионную область в качестве резистора, необходимо сместить в обратном направлении отделяющий ее p-n переход. Для этого подложку (n-тип) надо подключить к самому высокому потенциалу в схеме, т.е. к положительному источнику питания Е+. В данной конструкции всегда существует паразитный ток утечки.

При необходимости реализовать сопротивление большего номинала делается контур с изгибами (типа «меандр»).

R RS

l  N w

изл

R  RS

(1  2 )

где RS (1  2 ) — сопротивление контактных площадок. КП = 0,75.

Сжатый резистор (pinch, пинч-резистор)

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Рис. 2. Сжатый резистор

Поверхностное сопротивление сжатого p слоя, между слоями n и n+: RS= RБА.

Малые сопротивления.

Для малых сопротивлений (1…50 Ом) используются высоколегированные области

(эмиттерный n+ — слой):

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Рис. 3. Высоколегированная (эмиттерная) область

В схемах малой степени интеграции используется однослойная металлизация – слой алюминия на поверхности окисла, который формирует контакты к элементам ИС и межсоединения. В этом случае возможны ситуации, когда не удается избежать пересечения проводников. В этом случае используется так называемый «подныр»: один проводник остается алюминиевой шиной, а второй проходит под ним по низкоомному резистору.

МОП-транзистор

Исходные данные для расчета МОП-транзистора:

Параметр Описание
xj=0,4…1,2 Глубина залегания p-n перехода исток-подложка и сток-

подложка, мкм

L=∆…5∆ Длина канала транзистора, мкм
W=∆…10∆ Ширина канала транзистора, мкм
dпер=0,1 Длина области перекрытия затвор-исток и затвор-сток, мкм
NП_n=(5…10)1016 Концентрация акцепторной примеси в подложке n-канального

МОПТ, см-3

NП_p=(2…8)1016 Концентрация донорной примеси в подложке p-канального

МОПТ, см-3

NЗ_n=(1…1.5)1019 Концентрация донорной примеси в затворе n-канального

МОПТ, см-3

NЗ_p=(0.5…10)1019 Концентрация акцепторной примеси в затворе p-канального

МОПТ, см-3

NС_n=(0.5…1.5)1018 Концентрация донорной примеси в области истока/стока у pn-

перехода с подложкой в n-канальном МОПТ, см-3

NС_p=(0.7…1.2)1018 Концентрация акцепторной примеси в области истока/стока у

pn-перехода с подложкой в p-канальном МОПТ, см-3

ni=1.51010 (Si) Концентрация носителей зарядов в собственном

полупроводнике, см-3

=12 (Si), =3.9 (SiO2), Относительная диэлектрическая проницаемость

полупроводника, диэлектрика

q=1.610-19 Заряд электрона, Кл
n≈600…400 (Si) Подвижность электронов в канале МОПТ, см2/(Вс)
p≈300…200 (Si) Подвижность дырок в канале МОПТ, см2/(Вс)
T  0.025 Тепловой потенциал при комнатной температуре (Т=300 К), В

Расчет spice-параметров МОП-транзистора

Описание МОП-транзистора в SPICE.

M1 <узел стока> <узел затвора> <узел истока> <узел подложки> <название модели> L=<L>

+W=<W> AS=<AS> AD=<AD> PS=<PS> PD=<PD>

.model <название модели> nmos[или pmos](<список параметров>).

Набор spice-параметров МОП-транзистора.

Параметр Описание Примечание
1 L длина канала, мкм задан
2 W ширина канала, мкм задан
3 AS площадь истока, м2 рассчитывается
4 AD площадь стока, м2 рассчитывается
5 PS периметр истока, м рассчитывается
6 PD периметр истока, м рассчитывается
7 LEVEL уровень подключаемой модели задан (3)
8 VTO пороговое напряжение, В рассчитывается
9 TOX толщина подзатворного окисла, м задан
10 XJ глубина залегания p-n перехода

исток-подложка и сток-подложка, мкм

задан
11 NSUB концентрация примеси в подложке

МОПТ, см-3

задан
12 LD длина области перекрытия затвор-

исток и затвор-сток, мкм

задан
13 UO подвижность электронов в канале

МОПТ, см2/(Вс)

задан
14 CGSO удельная емкость перекрытия

затвор-исток, Ф/м.

рассчитывается
15 CGDO удельная емкость перекрытия

затвор-сток, Ф/м.

рассчитывается
16 CJ удельная донная емкость перехода

исток (сток) – подложка, Ф/м2

рассчитывается
17 CJSW удельная боковая емкость перехода

исток (сток) – подложка, Ф/м

рассчитывается

Площади областей истока и стока.

Площадь стока (AD) определяется как произведение длины области стока на ширину канала W. Площадь истока (AS) определяется как произведение длины области истока на ширину канала W.

Периметры областей истока и стока.

Периметр стока (PD) определяется как удвоенная сумма длины области стока и ширины канала

W.

Периметр истока (PS) определяется как удвоенная сумма длины области истока и ширины канала W.

Пороговое напряжение (VTO).

  1. канальный транзистор (подложка p-типа):

U    2 

    • Qc  ,

пор мп F

4q 0Si N F

C 2

OX

COX

где МП — разность работ выхода из затвора и подложки, В:

  1. канальный транзистор – подложка p-типа, затвор легирован n-примесью

мп

 

 T

ln  

ni

T

ln .

ni

|F| — абсолютное значение потенциала Ферми, В.

F  T

ln N .

ni

p-канальный транзистор (подложка n-типа):

U    2 

Qc  ,

пор мп F

4q 0Si N F

C 2

OX

COX

где МП — разность работ выхода из затвора и подложки, В:

  1. канальный транзистор – подложка n-типа, затвор легирован p-примесью

мп

 

 T

ln  

ni

T

ln .

ni

|F| — абсолютное значение потенциала Ферми, В.

F  T

ln N .

ni

Q  2 108

c

Кл

см2

— плотность заряда поверхностных состояний.

СOX

 oox

lox

— удельная емкость затвор-подложка (на единицу площади затвора), Ф/м2.

N – концентрация примеси в подложке.

Емкости МДП-транзистора.

Удельные емкости перекрытия CGDO и CGSO:

Cзс Сзи СOX Dпер

— удельные емкости перекрытия затвор-исток и затвор-сток (на единицу

ширины канала), [Ф/м].

Удельные емкости pn-переходов CJ и CJSW:

 0 Si

C j

d

— удельная донная емкость перехода исток (сток) – подложка (на единицу площади

pn

истока (стока)), Ф/м2.

C jsw C j x j

— удельная боковая емкость перехода исток (сток) – подложка (на единицу

периметра истока (стока)), Ф/м.

Варианты заданий

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

3 4

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

7 8

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

11 12

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

15 16

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

19 20

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

23 24

Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы Домашнее задание №1- Расчет логической схемы

27 28

50 ГЕНИАЛЬНЫХ СПОСОБОВ СПИСАТЬ НА ЭКЗАМЕНЕ / ШКОЛЬНЫЕ ЛАЙФХАКИ50 ГЕНИАЛЬНЫХ СПОСОБОВ СПИСАТЬ НА ЭКЗАМЕНЕ / ШКОЛЬНЫЕ ЛАЙФХАКИ

Отзывы

Отзывов пока нет.

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *


Техническая поддержка Live Chat

Привет, опишите свою проблему. Обязательно суть проблемы, email для связи

Заказать